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          孿生旋轉陰極機

          孿生旋轉陰極機

          • 所屬分類:定制真空鍍膜機
          • 瀏覽次數:
          • 發布日期:2020-09-14 10:18:02
          • 產品概述
          • 性能特點
          • 技術參數

          孿生旋轉陰極(內置&外置)

          產品名稱:孿生旋轉陰極(內置&外置)

          產品型號:CRT-CRT-DRMCathode

          專利:一種新型孿生外置旋轉陰極,ZL201610039979.2

          專利:一種內置旋轉陰極結構,20170512100.6

          設計說明:科瑞達真空發明的一種新型孿生外置旋轉陰極和一種內置旋轉陰極結構,首次將磁流體密封結構引入旋轉陰極端頭設計中,提高了旋轉陰極端頭動密封的穩定性和耐久性。


          一種新型內置旋轉陰極:

          (1)采用了磁流體密封的端頭結構設計,工藝穩定,可重復性好;

          (2)優化內置旋轉陰極磁場優化了磁場的強度分布,提高了沉積膜厚的均勻性;

          (3)高靶材利用率,靶材利用率大于85%;

          (4)靶面自清潔作用;

          (5)陰極結構通用性好;

          (6)靶材廣泛;

          (7)適用于直流磁控濺射和中頻磁控濺射。


          專利說明:

          一種新型內置旋轉陰極,包括由下端坐、碳刷、分水器、同步輪、磁流體、下軸承、下端蓋、靶管、磁極蓋、磁極N、磁極靴、極靴鎖、磁極S、上端蓋、絕緣套、進水管、水管套、絕緣座、靶電機、電機座、焊接層、固定座、固定銷、上軸承、上端座和進出水組成。本發明是一種新型內置旋轉陰極有以下特點,(1)陰極結構全內置在真空室;(2)陰極為線性陰極設計,長度可以根據工藝增加;(3)既可孿生組合使用,也可單陰極使用;(4)進出水設計合理,可任意角度安裝;(5)具有高沉積速率、寬均勻性沉積區、高靶材利用率和高工藝穩定性??梢詮V泛應用于大面積批量生產的磁控濺射鍍膜生產線和大面積光電鍍膜機。


          專利說明:

          一種新型孿生外置旋轉陰,包括共用靶套、孿生冷卻水系統、共用工藝進氣系統、孿生平衡磁極系統、共用旋轉動力系統、孿生電力接入系統、孿生觀察視窗和共用安全保護罩組成。本發明是采用線性孿生旋轉陰極設計,具有高沉積速率、寬均勻性沉積區、高靶材利用率和高工藝穩定性的特點,同時可實現連續靶面自清潔任意角度安裝的大面積新型孿生外置旋轉陰極??梢詮V泛應用于大面積批量生產的磁控濺射鍍膜生產線和大面積光電鍍膜機。


          一種新型孿生外置旋轉陰:

          (1)本發明專利采用平衡磁場設計,濺射等離子體可以長時間穩定工作,膜層工藝重復性好。

          (2)本發明專利為孿生線性陰極可以實現大面積沉積,其有效的沉積區域可以根據實際情況進行增大,適合的沉積區為300mm到1500mm。

          (3)本發明專利的磁場方向可調整,使得磁場更加聚集增強等離子密度有效提高沉積速率。

          (4)本發明專利采用旋轉陰極設計,具有高靶材利用率,靶材利用率大于85%。

          (5)本發明專利的為旋轉陰極,具有靶面自清潔作用。

          (6)本發明專利的兩套靶相互絕緣,同時兩套靶相對設備絕緣,兩個靶材可以互為陽極,也可以與接地構成陽極,因此可以消除陽極消失現象。

          (7)本發明專利的靶材廣泛??梢詫崿F金屬材料(金、銀、銅、鐵(不銹鋼)、鈦、鉬、鋁、錫、鉭和鈮等)、半導體材料(氧化銦錫、氮化鎵和硅等)和導電陶瓷材料(氧化鋅、氧化鈮、氧化鉭和氧化鈦等)。

          (8)電源通用性。市場上大部分電源(中頻交流電源、單/雙路直流電源、直流脈沖電源和直流偏壓電源等)都可以進行濺射。

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