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          臥式移動陰極鍍膜機

          臥式移動陰極鍍膜機

          • 所屬分類:單體鍍膜機
          • 瀏覽次數:
          • 發布日期:2020-04-29 11:26:53
          • 產品概述
          • 性能特點
          • 技術參數

          產品名稱:臥式移動陰鍍膜機

          產品型號:CRT-HM1050HorizontalMovingCathodeCoater

          設備用途:在釹鐵硼、玻璃、特種金屬和塑料塊(柱或顆粒)表面上沉積鏑Dy、鋱Te和鋁Al等金屬和陶瓷膜。

          武漢科瑞達真空科技有限有限公司的CRT-HM1050臥式移動陰極鍍膜機為實現在釹鐵硼陶瓷表面上實現Dy、Te和Al等功能膜層的生產線前期中式鍍膜而設計,是一種基于線性陰極磁控濺射鍍膜技術的特種鍍膜機,本機可以采用線性磁控濺射陰極,如單/孿生平面磁控濺射陰極、單/孿生旋轉磁控濺射陰極;因此可以采用多種磁控濺射工藝,直流磁控濺射、直流偏壓磁控濺射、中頻磁控濺射和射頻磁控濺射為特定的膜層材料進行調試生產。


          設備設計:

          臥式平板連續磁控濺射鍍膜被廣泛應用于各種薄膜的大批量生產中。例如在大面積磁電薄膜、大面積光電薄膜、大面積導電膜、大面積建筑薄膜和特種表面改性薄膜等。每種薄膜具有它本身特種的鍍膜工藝,在實現大面積連續生產之前,必須對生產工藝進行詳細的考察和試驗,并進行中試生產試驗,本設備因此而設計。并可擴展至沉積各種陶瓷、金屬、玻璃和塑料的柱狀、塊狀和顆粒狀形態表面。


          技術特點:

          1、操作:全/半自動,操作方便;

          2、真空進片節拍;小于20min一架;

          3、陰極:一套線性濺射陰極;

          4、濺射電源:直流/中頻;

          5、鍍膜:Dy、Te和Al等功能膜層;

          6、膜厚控制:較精 確受控陰極移動次數;

          7、真空:分子泵+羅茨泵和機械泵;

          8、輔助源:偏壓源;

          9、加熱:采用鎧裝加熱管加熱

          10、工件架:全自動進出片;

          11、工藝控制:全自動面板顯示輸入。


          技術參數:

          1、安裝:W3600*L2000*H2400mm;

          2、腔體:W1450*L1650*H650mm

          3、裝載:W800*L900mm;

          4、陰極:線性濺射陰極;

          5、靶材:Te(鋱)、Dy(鏑)、Al、Ti、Cr、Ni、Cu、Si、C(石墨)、In、Ga、ITO、AZO和GZO等

          6、真空范圍:ATM-6*10-4Pa;

          7、輔助源:偏壓源;

          8、沉積率:較精 確受控的陰極移動次數;

          9、真空:截止閥控制流量計工藝氣體;

          11、電源:三相四線制50HZ

          12、外接法蘭:KF16和KF25

          13、真空獲得:機械泵、羅茨泵和分子泵


          設備結構介紹:由真空室、真空機組、工裝系統、工藝控制和電氣控制系統組成。

          1、真空室

          臥式不銹鋼腔體(外壁水冷系統),底部抽氣,鉸鏈氣缸上下升降開門;配φ100觀察窗(含防污擋板)、預抽接口、分子泵接口、高低真空計接口和充氣接口;腔體側壁內部全部設計有加熱反射板、配有四組Φ10的冷卻管被擋板保護等,針對沉積Te(鋱)、Dy(鏑)工藝,可以通入冷卻水或者冷卻媒體進行腔體內部降溫。

          2、真空機組

          采用兩分子泵FF250+機械泵RVP24/TRP90提供高真空抽氣;分子泵與真空室采用插板閥隔離,獲得快速工件換裝抽氣。分子泵和高閥設計安裝在腔體頂部或底部,配有相應的插板閥和氣動角閥,配有復合式數顯真空測量儀。

          3、工裝系統

          W1000*L1050mm(工裝夾具可定做),整個W800*L900mm區域為工裝沉積區,有效沉積高度為小于25mm,工裝系統由電機通過磁流體導入動力帶動工件架運動,同時通過光電檢測任意控制運行速度和運行位置;陰極移動動力也通過磁流體導入,速度任意調整。

          4、濺射鍍膜系統

          真空腔體為W1450*L1650*H650mm的不銹鋼腔體,在腔體的底部布置設計有抽氣系統,真空監控裝置,加熱接口,冷卻接口,可以任意配置中頻孿生濺射陰極、中頻平面濺射陰極、直流磁控濺射陰極和線性離子源輔助沉積系統??梢酝瓿筛鞣N膜層的濺射鍍膜。

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