設備說明:用于小型顆粒表面沉積各種陶瓷、金屬和復合膜層

1.腔體：Φ600*L450mm

2.MAX可鍍工件：Φ100mm

3.極限真空度：優于2*10-4Pa

4.抽氣時間：大氣壓~8*10-3Pa小于30min

5.濺射源：平面陰極或者旋轉陰極

6.開啟方式：上方鉸鏈提拉結構

7.真空系統：機械泵+分子泵

8.樣品加熱：鎧裝加熱管

技術特點：

1.本設備適用于沉積陶瓷柱、陶瓷珠、塑料珠（柱）、粉體等顆粒型基材鍍膜，陰極可以推拉移出真空腔體，方便靶材安裝和維護。

2.本設備適合企業、科研單位和高校產品特種材料鍍膜中式使用，具有一定的批量產能。

3.該設備由真空室、真空機組、鍍膜系統、工裝系統和電氣控制系統組成。

4.采用分子泵+機械泵作為高真空和工藝抽氣；采用機械泵作為前級抽氣。

5.鍍膜材料：適合在各種顆粒型材料表面上沉積陶瓷、金屬和復合膜層。