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          圓筒磁控濺射鍍膜機

          圓筒磁控濺射鍍膜機

          • 所屬分類:單體鍍膜機
          • 瀏覽次數:
          • 發布日期:2020-09-14 10:10:44
          • 產品概述
          • 性能特點
          • 技術參數

          圓筒磁控濺射鍍膜機

          設備說明:用于小型顆粒表面沉積各種陶瓷、金屬和復合膜層

          1.腔體:Φ600*L450mm

          2.MAX可鍍工件:Φ100mm

          3.極限真空度:優于2*10-4Pa

          4.抽氣時間:大氣壓~8*10-3Pa小于30min

          5.濺射源:平面陰極或者旋轉陰極

          6.開啟方式:上方鉸鏈提拉結構

          7.真空系統:機械泵+分子泵

          8.樣品加熱:鎧裝加熱管

          技術特點:

          1.本設備適用于沉積陶瓷柱、陶瓷珠、塑料珠(柱)、粉體等顆粒型基材鍍膜,陰極可以推拉移出真空腔體,方便靶材安裝和維護。

          2.本設備適合企業、科研單位和高校產品特種材料鍍膜中式使用,具有一定的批量產能。

          3.該設備由真空室、真空機組、鍍膜系統、工裝系統和電氣控制系統組成。

          4.采用分子泵+機械泵作為高真空和工藝抽氣;采用機械泵作為前級抽氣。

          5.鍍膜材料:適合在各種顆粒型材料表面上沉積陶瓷、金屬和復合膜層。

          標簽

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