產品名稱：立式雙面磁控濺射鍍膜機

產品型號：CRT-AC1200DoubleSideMagnetronSputteringCoater

設備用途：在玻璃、陶瓷和金屬基材上實現雙面沉積陶瓷、光學膜和金屬膜。

武漢科瑞達真空科技有限有限公司設計的CRT-AC1200雙面磁控濺射鍍膜機為實現各種雙面復合多功能膜層鍍膜而設計，本機為立式單腔體，真空腔為箱式設計，在兩個側面上設計有通用的陰極安裝法蘭和維修門，可以按照實際工藝的需要安裝各種模塊，實現多種類型的沉積工藝和沉積膜層。本機可以靈活的采用多弧鍍和濺射進行鍍膜，廣泛應用于在特種玻璃、陶瓷、塑料和纖維布上用多種鍍膜方式進行復合膜層的鍍膜沉積。

設備設計：

在箱式真空腔體的兩個面上安裝有標準安裝法蘭?？砂惭b多弧陰極或者線性磁控濺射陰極，設有兩個維修門，也可作為前處理安裝法蘭。采用鉸鏈門結構，方便進出料。在真空腔體頂板上設有DN250mm的高真空抽氣口，同時采用插板閥高真空隔離；在腔體的頂板上設有真空進氣裝置、真空檢測裝置和工藝氣體進入裝置；真空系統為分子泵和機械泵組成的兩級真空抽氣系統。

技術特點：

1、操作：全/半自動，操作方便；

2、抽真空節拍；小于20min一架；

3、沉積源：四套線性沉積源；

4、濺射源：直流電源和中頻電源；

5、鍍膜：雙面金屬、介質膜和光學膜；

6、膜厚控制：較精 確制動的沉積圈數；

7、真空：分子泵、羅茨泵和機械泵；

8、離子源：線性離子源；

9、加熱：采用鎧裝加熱管加熱

10、工件架：進片推車手動對位；

11、工藝控制：工控電腦+PLC。

12、說明：在玻璃、陶瓷和金屬平板材料上實現雙面沉積陶瓷和金屬膜層。

技術參數：

1、安裝：W1800*L1800*H3200mm；

2、腔體：內空W1400*H1400*L480mm

3、裝載：Φ1200*D5mm，嵌入式裝載盤；

5、濺射：直流濺射/中頻濺射/多弧陰極；

6、真空范圍：ATM-6*10-4Pa；

7、離子源：線性離子源，4KW；

8、沉積率：較精 確控制的圈數；

9、進出片：手動對位托盤和小車；

10、真空：截止閥控制流量計工藝氣體；

11、電源：三相四線制50HZ

12、外接法蘭：KF16和KF25

13、真空獲得：機械泵、羅茨泵和分子泵

設備結構介紹：由真空室、真空機組、工裝系統、工藝控制系統和電氣控制系統組成。

1、真空室

箱式不銹鋼腔體（外壁水冷系統），鉸鏈開門；SUS304不銹鋼材質，配LF250標準安裝法蘭（含防污擋板）、視窗、預抽接口、分子泵接口、高低真空計接口和充氣接口；腔體側壁內部全部設計有反射板等。

2、真空機組

采用分子泵FF250/2000+機械泵2X-70提供高真空抽氣，和工藝維護抽氣系統；由機械泵2X-70提供腔體前級抽氣系統，獲得快速工件換裝抽氣。分子泵和高閥設計安裝在腔體頂部或底部，配有相應的插板閥和氣動角閥，配有復合式數顯真空測量儀。

3、電氣系統

電氣系統包括真空機組控制、工裝系統、真空測量控制等部分組成。有安全互鎖機構，有效防止誤操作發生。

4、工藝控制系統

工藝控制系統配置有四套線性濺射陰極、兩套線性離子源、四套10KW電源、八套工藝流量計（帶截止閥）、濺射擋板裝置和工裝加熱旋轉自動控制系統；配置有多組冷卻水盤管，有效帶走沉積過程中產生的熱量。

5、工裝系統

Φ1200*D5mm（工裝夾具可定做），采用航空鋁鏤空沉臺設計，邊緣裝夾夾具位小于2mm，配合雙面鍍膜工裝；可以實現雙面同時鍍膜工藝。

6、多功能鍍膜系統

本機設計在玻璃、陶瓷和金屬平板材料上實現雙面沉積陶瓷和金屬膜層。