產品名稱:立式雙面磁控濺射鍍膜機
產品型號:CRT-AC1200DoubleSideMagnetronSputteringCoater
設備用途:在玻璃、陶瓷和金屬基材上實現雙面沉積陶瓷、光學膜和金屬膜。
武漢科瑞達真空科技有限有限公司設計的CRT-AC1200雙面磁控濺射鍍膜機為實現各種雙面復合多功能膜層鍍膜而設計,本機為立式單腔體,真空腔為箱式設計,在兩個側面上設計有通用的陰極安裝法蘭和維修門,可以按照實際工藝的需要安裝各種模塊,實現多種類型的沉積工藝和沉積膜層。本機可以靈活的采用多弧鍍和濺射進行鍍膜,廣泛應用于在特種玻璃、陶瓷、塑料和纖維布上用多種鍍膜方式進行復合膜層的鍍膜沉積。
設備設計:
在箱式真空腔體的兩個面上安裝有標準安裝法蘭??砂惭b多弧陰極或者線性磁控濺射陰極,設有兩個維修門,也可作為前處理安裝法蘭。采用鉸鏈門結構,方便進出料。在真空腔體頂板上設有DN250mm的高真空抽氣口,同時采用插板閥高真空隔離;在腔體的頂板上設有真空進氣裝置、真空檢測裝置和工藝氣體進入裝置;真空系統為分子泵和機械泵組成的兩級真空抽氣系統。
技術特點:
1、操作:全/半自動,操作方便;
2、抽真空節拍;小于20min一架;
3、沉積源:四套線性沉積源;
4、濺射源:直流電源和中頻電源;
5、鍍膜:雙面金屬、介質膜和光學膜;
6、膜厚控制:較精 確制動的沉積圈數;
7、真空:分子泵、羅茨泵和機械泵;
8、離子源:線性離子源;
9、加熱:采用鎧裝加熱管加熱
10、工件架:進片推車手動對位;
11、工藝控制:工控電腦+PLC。
12、說明:在玻璃、陶瓷和金屬平板材料上實現雙面沉積陶瓷和金屬膜層。
技術參數:
1、安裝:W1800*L1800*H3200mm;
2、腔體:內空W1400*H1400*L480mm
3、裝載:Φ1200*D5mm,嵌入式裝載盤;
5、濺射:直流濺射/中頻濺射/多弧陰極;
6、真空范圍:ATM-6*10-4Pa;
7、離子源:線性離子源,4KW;
8、沉積率:較精 確控制的圈數;
9、進出片:手動對位托盤和小車;
10、真空:截止閥控制流量計工藝氣體;
11、電源:三相四線制50HZ
12、外接法蘭:KF16和KF25
13、真空獲得:機械泵、羅茨泵和分子泵
設備結構介紹:由真空室、真空機組、工裝系統、工藝控制系統和電氣控制系統組成。
1、真空室
箱式不銹鋼腔體(外壁水冷系統),鉸鏈開門;SUS304不銹鋼材質,配LF250標準安裝法蘭(含防污擋板)、視窗、預抽接口、分子泵接口、高低真空計接口和充氣接口;腔體側壁內部全部設計有反射板等。
2、真空機組
采用分子泵FF250/2000+機械泵2X-70提供高真空抽氣,和工藝維護抽氣系統;由機械泵2X-70提供腔體前級抽氣系統,獲得快速工件換裝抽氣。分子泵和高閥設計安裝在腔體頂部或底部,配有相應的插板閥和氣動角閥,配有復合式數顯真空測量儀。
3、電氣系統
電氣系統包括真空機組控制、工裝系統、真空測量控制等部分組成。有安全互鎖機構,有效防止誤操作發生。
4、工藝控制系統
工藝控制系統配置有四套線性濺射陰極、兩套線性離子源、四套10KW電源、八套工藝流量計(帶截止閥)、濺射擋板裝置和工裝加熱旋轉自動控制系統;配置有多組冷卻水盤管,有效帶走沉積過程中產生的熱量。
5、工裝系統
Φ1200*D5mm(工裝夾具可定做),采用航空鋁鏤空沉臺設計,邊緣裝夾夾具位小于2mm,配合雙面鍍膜工裝;可以實現雙面同時鍍膜工藝。
6、多功能鍍膜系統
本機設計在玻璃、陶瓷和金屬平板材料上實現雙面沉積陶瓷和金屬膜層。