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          蒸發鍍膜機

          蒸發鍍膜機

          • 所屬分類:單體鍍膜機
          • 瀏覽次數:
          • 發布日期:2020-09-14 10:06:01
          • 產品概述
          • 性能特點
          • 技術參數

          立式蒸發鍍膜機

          產品名稱:立式蒸發鍍膜機

          產品型號:CRT-OPT2700EvaporationCoater

          設備用途:大面積電子槍蒸發光電膜、光學膜和防指紋膜。

          武漢科瑞達真空科技有限公司生產的CRT-OPT2700蒸發鍍膜機為實現大量快速生產大面積光學膜鍍膜和單層/多層表面改性膜而設計,本機為立式單腔體鍍膜機,是一種基于電子槍蒸發的多層光學薄膜鍍膜系統。本設備的主要產品蒸發沉積多層光學介質膜和防指紋膜等,例如,可見光彩色膜、鋁反射膜、AF防指紋膜、低熔點有機物膜、可見光分光膜、可見光抗反射膜等,也可以為特定的簡單光學特性膜系進行調試生產。


          設備設計:

          鍍膜機為實現大批量、高質量和快速生產配置有一套12穴電子槍蒸發系統和一套蒸發舟蒸發系統。

          鍍膜機采用側壁布置低溫泵設計,每臺由獨立的閥隔離,可任意關閉和開啟;四套修正板,一套可調修正板,保證鍍膜均勻性的調整和鍍膜的質量。


          技術特點:

          1、操作:全/半自動,操作方便;

          2、抽氣節拍;小于15min一爐子;

          3、蒸發源:一套12穴電子槍;

          4、蒸發源:一套電阻蒸發;

          5、鍍膜:光學膜和防指紋膜;

          6、控制:InficonXTC3/S

          上海膜林MXC-3B;

          7、真空:低溫泵羅茨泵和機械泵

          9、離子源:霍爾離子源,4KW;

          10、加熱:采用碘鎢燈管加熱

          11、工件架:Φ2650公轉工裝架;

          12、工藝控制:TFC膜系軟件。


          技術參數:

          1、安裝:L45000*L5500*H3400mm;

          2、內腔體:Φ2700*H1680mm

          3、裝載:Φ2650*H420mm不銹鋼傘架;

          4、靶材:12穴電子槍一套,銅水冷;

          5、蒸發:一套電阻蒸發系統;

          6、真空范圍:ATM-6*10-4Pa;

          7、離子源:霍爾離子源,4KW;

          8、沉積率:MAC-3B/XTC3/S;

          9、腔體加熱:底燈絲加熱6組,24KW;

          10、真空:流量計和針閥控制工藝氣體;

          11、電源:220V50HZ

          12、外接法蘭:KF16和KF25

          13、真空獲得:機械泵、羅茨泵和低溫泵


          設備結構介紹:

          該設備由真空室、真空泵組、工裝架、膜厚監控、離子輔助、真空控制和鎢等加熱系統通過PLC集成控制組成。

          1、鍍膜工藝腔體

          Φ2700*H1680mm的圓筒形內腔體(外壁焊接水冷)。側壁板上布置有三臺DZB550低溫泵,粗抽為一臺萊寶SV750BF和一臺WAU4400組成,低溫泵每臺都有獨立的擋板閥密封。門板上四個觀察窗,兩組底部燈絲加熱,SUS304材質;腔體內壁安裝有雙層鏡面板和防污板。腔體頂部安裝有由自轉系統和均勻性修正板;腔體底部六組燈絲加熱系統,一臺12穴銅坩堝電子槍蒸發系統、一套銅電極電阻蒸發系統、一套霍爾離子源輔助沉積系統,一套XTC3S或者MXC-3B膜厚控制系統、兩套可調式均勻性調節板。腔體側壁上設計有均勻進氣系統,有兩路流量計通過混氣體罐連接腔體,通過流量控制調整鍍膜真空度。

          2、工藝系統

          采用膜系設計軟件進行光學多層膜膜系設計,生成控制參數并由晶振儀通過PLC進行膜層厚度沉積控制,由日本山武的流量計和截止閥通過真空反饋實時控制真空度的穩定。全自動鍍膜系統,由愛科斯整合優化設計的全自動工藝程序,靈活、可靠、合理和順通的執行程序,并實時對各個運行參數進行采集與存儲,可分析靈活調用和分析成膜過程。

          標簽

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