產品名稱：立式蒸發鍍膜機

產品型號：CRT-OPT2700EvaporationCoater

設備用途：大面積電子槍蒸發光電膜、光學膜和防指紋膜。

武漢科瑞達真空科技有限公司生產的CRT-OPT2700蒸發鍍膜機為實現大量快速生產大面積光學膜鍍膜和單層/多層表面改性膜而設計，本機為立式單腔體鍍膜機，是一種基于電子槍蒸發的多層光學薄膜鍍膜系統。本設備的主要產品蒸發沉積多層光學介質膜和防指紋膜等，例如，可見光彩色膜、鋁反射膜、AF防指紋膜、低熔點有機物膜、可見光分光膜、可見光抗反射膜等，也可以為特定的簡單光學特性膜系進行調試生產。

設備設計：

鍍膜機為實現大批量、高質量和快速生產配置有一套12穴電子槍蒸發系統和一套蒸發舟蒸發系統。

鍍膜機采用側壁布置低溫泵設計，每臺由獨立的閥隔離，可任意關閉和開啟；四套修正板，一套可調修正板，保證鍍膜均勻性的調整和鍍膜的質量。

技術特點：

1、操作：全/半自動，操作方便；

2、抽氣節拍；小于15min一爐子；

3、蒸發源：一套12穴電子槍；

4、蒸發源：一套電阻蒸發；

5、鍍膜：光學膜和防指紋膜；

6、控制：InficonXTC3/S

上海膜林MXC-3B；

7、真空：低溫泵羅茨泵和機械泵

9、離子源：霍爾離子源，4KW；

10、加熱：采用碘鎢燈管加熱

11、工件架：Φ2650公轉工裝架；

12、工藝控制：TFC膜系軟件。

技術參數：

1、安裝：L45000*L5500*H3400mm；

2、內腔體：Φ2700*H1680mm

3、裝載：Φ2650*H420mm不銹鋼傘架；

4、靶材：12穴電子槍一套，銅水冷；

5、蒸發：一套電阻蒸發系統；

6、真空范圍：ATM-6*10-4Pa；

7、離子源：霍爾離子源，4KW；

8、沉積率：MAC-3B/XTC3/S；

9、腔體加熱：底燈絲加熱6組，24KW；

10、真空：流量計和針閥控制工藝氣體；

11、電源：220V50HZ

12、外接法蘭：KF16和KF25

13、真空獲得：機械泵、羅茨泵和低溫泵

設備結構介紹：

該設備由真空室、真空泵組、工裝架、膜厚監控、離子輔助、真空控制和鎢等加熱系統通過PLC集成控制組成。

１、鍍膜工藝腔體

Φ2700*H1680mm的圓筒形內腔體（外壁焊接水冷）。側壁板上布置有三臺DZB550低溫泵，粗抽為一臺萊寶SV750BF和一臺WAU4400組成，低溫泵每臺都有獨立的擋板閥密封。門板上四個觀察窗，兩組底部燈絲加熱，SUS304材質；腔體內壁安裝有雙層鏡面板和防污板。腔體頂部安裝有由自轉系統和均勻性修正板；腔體底部六組燈絲加熱系統，一臺12穴銅坩堝電子槍蒸發系統、一套銅電極電阻蒸發系統、一套霍爾離子源輔助沉積系統，一套XTC3S或者MXC-3B膜厚控制系統、兩套可調式均勻性調節板。腔體側壁上設計有均勻進氣系統，有兩路流量計通過混氣體罐連接腔體，通過流量控制調整鍍膜真空度。

2、工藝系統

采用膜系設計軟件進行光學多層膜膜系設計，生成控制參數并由晶振儀通過PLC進行膜層厚度沉積控制，由日本山武的流量計和截止閥通過真空反饋實時控制真空度的穩定。全自動鍍膜系統，由愛科斯整合優化設計的全自動工藝程序，靈活、可靠、合理和順通的執行程序，并實時對各個運行參數進行采集與存儲，可分析靈活調用和分析成膜過程。